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供应磷化铟InP多晶体

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    磷化铟

沥青光泽的深灰色晶体

英文名称:Indium phosphide

CAS号:22398-80-7

分子式:InP

分子量:145.791761

性状:沥青光泽的深灰色晶体。

熔点:1070℃。闪锌矿结构,常温下带宽(Eg=1.35 eV)。熔点下离解压为2.75MPa。

溶解性:极微溶于无机酸。

介电常数:10.8

电子迁移率:4600cm2/(V·s)

空穴迁移率:150cm2/(V·s)

制备:具有半导体的特性。由金属铟和赤磷在石英管中加热反应制得。

用作半导体材料,用于光纤通信技术。

磷化铟晶体是继硅和砷化镓之后又一重要的ⅲ-v族化合物半导体材料,但是目前半绝缘类型inp衬底的生产质量急需改善和提高。研究人员告诉记者,原生半绝缘inp是通过在单晶生长过程中掺入铁原子来制备的。为了达到半绝缘化的目的,铁原子的掺杂浓度较高,高浓度的铁很可能会随着外延及器件工艺过程发生扩散。而且由于铁在磷化铟中的分凝系数很小,inp单晶锭沿生长轴方向表现出明显的掺杂梯度,顶部和底部的铁浓度相差一个数量级以上,由其切割成的单晶片的一致性和均匀性就很难保证。就切割成的单个inp晶片而言,由于受生长时的固液界面的影响,铁原子从晶片中心向外呈同心圆状分布,这显然也不能满足一些器件应用的需要。所有这些因素是目前制约半绝缘磷化铟单晶片生产质量的*大障碍。

  

 
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